華測(cè)高溫介電測(cè)試儀

產(chǎn)品概述

3、溫度波動(dòng)小于±0.25℃，抗干擾性提高300倍
高溫介電溫譜測(cè)試系統(tǒng)運(yùn)用三電極法設(shè)計(jì)原理測(cè)量，并參考A.S.T.M 標(biāo)準(zhǔn)。其重復(fù)性與穩(wěn)定性更好，采用雙屏蔽高頻測(cè)試線纜，提高測(cè)試參數(shù)的準(zhǔn)確度，同時(shí)抗干擾能力更強(qiáng)。搭配Labview系統(tǒng)開(kāi)發(fā)的Huacepro軟件，具備彈性的自定義功能，可進(jìn)行介電溫譜、頻譜、升溫速度、測(cè)量參數(shù)等設(shè)置，符合壓電陶瓷與其它新材料測(cè)試多樣化的需求。在過(guò)壓、過(guò)電流、超溫等異常情況下確保測(cè)試過(guò)程的**，高溫介電測(cè)試儀的資料保存機(jī)制在電腦異常時(shí)瞬時(shí)斷電可將資料保存于控制器中，不丟失試驗(yàn)數(shù)據(jù)，設(shè)備重新啟動(dòng)后可恢復(fù)原有試驗(yàn)數(shù)據(jù)。
4、專(zhuān)用高頻測(cè)試線纜，更適合高頻測(cè)量
測(cè)試引線使用4端子對(duì)配置以擴(kuò)展測(cè)量端口，附帶BNC陽(yáng)頭連接板，用于連接高溫爐的測(cè)試夾具，同時(shí)測(cè)試線采用高頻測(cè)試專(zhuān)用測(cè)試線，設(shè)計(jì)兩層屏蔽。更適合高頻介電參數(shù)測(cè)量。

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

目前國(guó)內(nèi)高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，主要原理為加熱絲或硅碳棒對(duì)爐體加熱，加熱與降溫過(guò)程速度慢，效率低。也無(wú)法實(shí)現(xiàn)溫度的高精度測(cè)量，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象，華測(cè)儀器通過(guò)多年研究開(kāi)發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)高精度，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置，在高速加熱及高速冷卻時(shí)，具有良好的溫度分布?？蓪?shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護(hù)加熱試樣，無(wú)氣氛污染?？稍诟哒婵?，高純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。 它提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰?。同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間，在試驗(yàn)中也可改寫(xiě)設(shè)定溫度值。從各方面講，都節(jié)省試驗(yàn)時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單，有冷卻系統(tǒng)**可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率，實(shí)現(xiàn)溫度控制操作！

華測(cè)高溫介電測(cè)試儀的優(yōu)勢(shì)：

溫度高精度控制
近紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控制器的組合使用，可以準(zhǔn)確控制樣品的溫度(遠(yuǎn)比普通加溫方式)。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高精度。
高速加熱與冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時(shí)爐體可配置水冷系統(tǒng)，增設(shè)氣體冷卻裝置，可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。
不同環(huán)境下的加熱與冷卻
加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng)），操作簡(jiǎn)單，使用石英玻璃制成。

應(yīng)用領(lǐng)域